Silício Monocristalino De Wafer De Silício Do Substrato De Si Substrato Único Lado Polimento - Epitaxial Wafer - -N/P De Tamanho De Tipo De

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Mão & Acessórios Da Ferramenta De Poder

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  • Certificação: CE
  • DIY Suprimentos: ELÉTRICA
  • Origem: China

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Instrução: todos os substratos na loja são processadas pelo físico de fábrica, janela/substrato/filme revestido para ser óptico

Nível polido, aceitar tamanho de personalização.

Material: Si de um único cristal de substrato, N, P tipo, intrínseca opcional;

Características: Pequena amostra, mais acessível

O crescimento modo: straight pull

Orientação: [111] / [100]

Nivelamento: lt;1 mícron

Como usar: 1. PVD/CVD como substrato;

2. Utilizado como teste de substrato para XRD, SEM, de força atômica, o espectro infravermelho, fluorescência espectro e outras análises;

3. A radiação síncrotron experimental exemplo transportador;

4. Base para epitaxia de feixe molecular de crescimento;

5, semicondutores processo de litografia e assim por diante.

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